使用專利光延遲調(diào)制器(PEM)技術，該系統(tǒng)提供最高規(guī)格雙折射靈敏度。此外，PEM提供高速操作，以50/60KHz的速度進行調(diào)制。高靈敏度與高重復精度的特性，很容易實現(xiàn)亞納米級的雙折射延遲量測量。

 

便捷快速的操作而設計

 儀器自帶一個140x190mm（可定制其他尺寸）的光學樣品臺，可以通過手動或自動方式設定掃描區(qū)域。將樣本放置到樣品臺后，可以通過軟件的圖形界面進行直觀的設置與測量。用戶界面軟件能夠顯示延遲值和快軸角度，并且能在掃描模式下提供二維的延遲分布信息。

應用

 質(zhì)量控制                                 

低延遲的雙折射測量：

光滑玻璃

其他透明光學元件

激光晶體

 

光刻組件的質(zhì)量驗證：

光掩膜

熔石英光學元件

氟化鈣鏡片毛坯和窗口
 

主要特點

在低延遲雙折射測量中可同時測量雙折射延遲幅度和角度

精確度可重復性

高速測量（60pps）

無需移動被測樣品

可自由設定測量區(qū)間范圍

 

主要參數(shù)

調(diào)制頻率	50KHz/60KHz
波長	632.8nm（可定制）
信號處理方案	信號捕捉卡
測量單位	延遲量: nm  軸角度：°
掃描范圍	140*190mm （可定制其他范圍）
可測量的延遲范圍	0.005nm-158nm
延遲精度/重復性	0.001nm/±0.015nm
角度精度/重復性	0.01°/±0.07°
測量速度	60次/秒