光學微電子凈化工程之定義為將一定空間范圍內之空氣中的微塵粒子、有害空氣、細菌等之污染物排除，并將室內之溫濕度、潔凈度、室內壓力、氣流速度與氣流分布、噪音震動及照明、靜電控制在某一需求范圍內，而所給于特別設計之密閉空間。

光學微電子凈化工程亦名無塵室或清凈室，目前已是半導體、精密制造、液晶制造、光學制造、線路板制造和生物化學、醫藥、食品制造等行業不可或缺的重要設施。近幾年來，由于技術之創新發展，對于產品的高精密度化、細小型化之需求更為迫切，如超大型積體電路之研究制造，已成為世界各國在科技發展上極為重視的項目，而我公司的設計理念及施工技術在行業中則處于領先地位。

光學微電子凈化工程一般包括：

1、 潔凈生產區

2、 潔凈輔助間（包括人員凈化用房、物料凈化用室和部分生活用室等）

3、 管理區（包括辦公、值班、管理和休息等）

4、 設備區（包括凈化空調系統應用、電氣用房、高純水和高純氣用房、冷熱設備用房）

光學微電子凈化工程凈化原理

氣流→初效凈化→空調→中效凈化→風機送風→管道→高效凈化風口→吹入房間→帶走塵埃細菌等顆粒 → 回風百葉窗→初效凈化 重復以上過程，即可達到凈化目的。

光學微電子凈化工程凈化參數

換氣次數：100000級≥15次；10000級≥20次；1000≥30次。壓差：主車間對相鄰房間≥5Pa平均風速：10級、100級0.3－0.5m/s；溫度 冬季＞16℃；夏季 ＜26℃；波動±2℃。溫度45－65％；GMP粉劑車間濕度在50％左右為宜；電子車間濕度略高以免產生靜電。噪聲≤65dB（A）；新風補充量是總送風量的10％－30％；照度300LX。

 

光學微電子凈化工程結構材料

1. 凈化廠房墻、頂板材一般多采用50mm厚的夾芯彩鋼板制造，其特點為美觀、剛性強。圓弧墻 角、門、窗框等一般采用專用氧化鋁型材制造。

2.地面可采用環氧自流坪地坪或高級耐磨塑料地板，有防靜電要求的，可選用防靜電型。

3.送回風管道用熱渡鋅板制成，貼凈化保溫效果好的阻燃型PF發泡塑膠板。

4.高效送風口用不銹鋼框架，美觀清潔，沖孔網板用烤漆鋁板，不生銹不粘塵，宜清潔。

光學微電子凈化工程解決方案:

凈化工程的設計過程中，應加強對光學微電子行業凈化工程設計方案分析了解,根據該工程是新建工程或者是舊廠房改造工程，并結合其具體的生產工藝、生產流程等要求確定其需要的潔凈度、溫濕度。再根據該工程的具體情況，同時還要考慮到生產廠家的經濟承受能力，綜合各種因素來確定采用何種凈化方案，這樣才可設計出一個能滿足甲方生產使用要求、工程造價合理、經濟節能實用的方案。

ISO14644-1(國際標準)

空氣潔凈度等級（N)	大于或等于所標粒徑的粒子zui大濃度限值（個/每立方米空氣粒子
	0.1um	0.2um	0.3um	0.5um	1.0um	5.0um
ISO CIass1	10	2
ISO CIass2	100	24	10	4
ISO CIass3	1,000	237	102	35	8
ISO CIass4	10,000	2,370	1,020	352	83
ISO CIass5	100,000	23,700	10,200	3,520	832	29
ISO CIass6	1,000,000	237,000	102,000	35,200	8,320	293
ISO CIass7				352,000	83,200	2,930
ISO CIass8				3,520,000	832,000	29,300
ISO CIass9				35,200,000	8,320,000	293,000
注：由于涉及測量過程的不確定性，故要求用不超過三個有效的濃度數字來確定等級水平