一、高真空電阻爐是專門為工業和研究應用而設計制造的，可應用于
■真空退火，脫氣和精煉
■金屬和陶瓷的燒結
■液相燒結和金屬浸漬
■真空釬焊和活性金屬釬焊
■真空材料測試
每個VRF爐的尺寸和配置是針對特定的工藝和應用，
如工作區尺寸、結構布局、真空系統、熱區和加熱電源。
高真空可通過擴散泵或渦輪分子泵機組來實現。
二、產品描述
■真空電阻加熱爐包括雙層水冷爐殼，水冷電極，加熱體，溫度測量裝置，冷卻水裝置，真空系統，電源和控制系統
■可選配強制快速循環冷卻裝置；脫蠟裝置和氣氛控制裝置。
■爐體采用立式或臥式結構設計；加熱控制區的數量最多可以達到6個（或更多），通過調整這些熱區的數量和布局可以獲得極佳的均溫性，部分爐型可以優于±3℃。
■對于抽真空系統，可以使用不同類型的泵組和所有市場上的知名品牌；根據工藝要求，可以獲得的10Pa ~10-5Pa。
■PLC控制的程序順序可確保工藝的全自動化和可重復性、以及穩定的產品質量。計算機操作界面和相應的數據處理系統可以滿足高可靠質量控制的要求。
三、產品特點：
■最高工作溫度 2800°C.
■有效體積從 1 升 到 1立方米 (可以更大，取決于客戶的需求)
■采用獨立加熱器分區加熱
■在有效空間內最佳的均溫性可以達到±3℃
■真空范圍可達到 1·10-5 mbar (1·10-3 Pa).
■能在惰性氣體（氬氣、氮氣或氦氣)環境下使用，也能采用安全可靠的措施在氫氣環境下使用
